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風(fēng)淋室具備多種潔凈等級及空間搭配可以根據(jù)使用需求設(shè)計制作，因此其簡便運(yùn)用彈性大安裝容易且施工期短以及可移性為其主要特點，風(fēng)淋室同時可針對在一般等級的潔凈室中局部地區(qū)需要高潔凈度的地方做局部增設(shè)以降低成本。風(fēng)淋室是一種可提供局部高潔凈環(huán)境的空氣凈化設(shè)備。

風(fēng)淋室主要由箱體、風(fēng)機(jī)、初效空氣過濾器、阻尼層、燈具等組成，外殼噴塑。該產(chǎn)品既可懸掛，又可地面支撐，結(jié)構(gòu)緊湊，使用方便?？梢詥蝹€使用，也可多個連接組成帶狀潔凈區(qū)域。潔凈室的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢。

濕度過高產(chǎn)生的問題更多，相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在*密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面*難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。

具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以應(yīng)該有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為操作人員出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過25度。